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水处理系统水质监测所用仪表选型指南!
返回列表 来源: 发布日期: 2025.01.08

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在现代工业生产和生活中,水处理系统的稳定运行至关重要。为了确保水质的安全和稳定,必须对水质进行实时监测。本文将结合一张详细的水处理系统水质监测及所用仪表情况的表格,介绍几种关键的水质监测仪表及其在水处理系统中的应用。

表格中列出了多个监测部位和相应的监测参数、监测目的、监测指标以及在线仪表和实验室仪表的选用情况。以下是几个重点部位的详细分析:

澄清器出口

  • 监测参数 :浊度
  • 监测目的 :监测澄清器效果
  • 监测指标 :0~2NTU
  • 仪表选用 :在线仪表TP1801

澄清器是水处理系统中的重要环节,通过加入混凝剂和助凝剂,使水中的悬浮物和胶体物质凝聚成絮状体,通过重力作用沉降下来。浊度仪TP1801能够实时监测澄清器出口的水质浊度,确保澄清效果达到要求。

阳床出口

  • 监测参数 :钠离子
  • 监测目的 :监测阳床运行情况
  • 监测指标 :0~100μg/L
  • 仪表选用 :在线仪表TP130,实验室仪表TP330

阳床主要用来去除水中的阳离子,如钙、镁等,同时也会产生一定的钠离子。通过钠离子浓度计TP130和实验室仪表TP330的监测,可以了解阳床的运行状态,及时调整再生周期和再生剂用量。

阴床出口

  • 监测参数 :电导率、二氧化硅
  • 监测目的 :监测阴床出水水质
  • 监测指标 :电导率010μs/cm,二氧化硅0 100μg/L
  • 仪表选用 :在线仪表TP120、TP106,实验室仪表TP320、TP306

阴床主要用于去除水中的阴离子,如氯离子、硫酸根离子等。通过电导率仪TP120和二氧化硅浓度计TP106的在线监测,以及实验室仪表TP320和TP306的定期检测,可以确保阴床出水水质达到要求。

混床出口

  • 监测参数 :电导率、二氧化硅、钠离子、PH
  • 监测目的 :监测混床运行情况及水质
  • 监测指标 :电导率00.2μs/cm,二氧化硅0 20μg/L,钠离子0 20μg/L,PH6 PH8
  • 仪表选用 :在线仪表TP120、TP106、TP130、TP110,实验室仪表TP320、TP306、TP330、TP310

混床是结合了阳床和阴床功能的一种复合床,能够同时去除水中的阳离子和阴离子,从而获得高质量的去离子水。通过电导率仪、二氧化硅浓度计、钠离子浓度计和PH计的综合监测,可以全面了解混床的运行状态和水质情况,确保出水水质稳定可靠。

其他监测部位

除了上述重点部位外,表格中还列出了酸喷射器出口、碱喷射器出口、中和池等部位的监测参数和仪表选用情况。这些部位的监测同样重要,可以确保水处理系统的稳定运行和达标排放。

综上所述,水处理系统的水质监测涉及多个环节和多个参数。通过合理选择和使用各种水质监测仪表,可以实时监测水质情况,及时发现并解决问题,确保水处理系统的安全、稳定和高效运行。同时,也为生产和生活提供了优质的水资源保障。

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